HiMedia RM7746-100G Ацетилсалициловая кислота
HiMediaHiMedia·Арт.: 0057086·Арт. произв.: RM7746-100G

HiMedia RM7746-100G Ацетилсалициловая кислота

Под заказ3 183 руб.

Компонент питательной среды HiMedia RM7746-100G Ацетилсалициловая кислота с CAS 50-78-2 имеет чистоту 98,50–101,50 % по титрованию NaOH. Ацетилсалициловая кислота предназначена для применения в составе питательных сред; температура хранения — ниже 30 °C.

Описание

Компонент питательной среды HiMedia RM7746-100G Ацетилсалициловая кислота с CAS 50-78-2 имеет чистоту 98,50–101,50 % по титрованию NaOH. Ацетилсалициловая кислота предназначена для применения в составе питательных сред; температура хранения — ниже 30 °C.

Технические характеристики

  • Производитель: HiMedia
  • Назначение изделия: среда
  • CAS-номер: 50-78-2
  • Масса: 100 г
  • Температурный диапазон: 15–30 °C
  • Температура хранения: ниже 30 °C

Идентификационные данные

Номер CAS50-78-2
Номер EC200-064-1
Молекулярная формулаC₉H₈O₄
Молекулярная масса180,16
СинонимАспирин
Код ТН ВЭД2918 22 00
ХранениеНиже 30 °C
Срок годности4 года

Техническая спецификация

Внешний видБесцветные или белые — почти белые кристаллы либо порошок
Растворимость100 мг растворяются в 1 мл этанола
ИК-Фурье-спектроскопия (FTIR)Соответствует стандартному спектру
Интервал плавления134–136 °C
Массовая доля основного вещества, титрование NaOH98,50–101,50 %

Информация по безопасности

Пиктограмма опасностиВосклицательный знак
Сигнальное словоВнимание
Указания на опасностьH302-H412
Меры предосторожностиP264-P270-P273-P301+P312-P330-P501
Номер ООННе является опасным грузом
Класс-
Группа упаковки-
RTECSVO0700000
WGK1

Данные производителя

ПараметрЗначение
Номер EC200-064-1
Номер CAS50-78-2
Код ТН ВЭД2918 22 00
ХранениеНиже 30 °C
СинонимАспирин
Срок годности4 года
Молекулярная масса180,16
Молекулярная формулаC₉H₈O₄

Характеристики

Производитель/Серия

ПроизводительHiMedia

CAS номер

CAS номер50-78-2

Назначение изделия

Назначение изделияСреда

Габариты и вес

Вес100г

Похожие товары

Запросить коммерческое предложение